(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221422815.5 (22)申请日 2022.06.08 (73)专利权人 苏州同冠微电子有限公司 地址 215617 江苏省苏州市张家港经济技 术开发区新丰东路3号 (72)发明人 王炜　胡县中　王献兵　徐惠懂　 缪新海　 (74)专利代理 机构 常州佰业腾飞专利代理事务 所(普通合伙) 32231 专利代理师 王巍巍 (51)Int.Cl. B05B 16/20(2018.01) B05B 13/02(2006.01) B05D 3/04(2006.01) B05B 15/00(2018.01)H01L 21/228(2006.01) (54)实用新型名称 一种晶片表面自动涂源设备 (57)摘要 本申请涉及晶片生产技术领域， 且公开了一 种晶片表面自动涂源设备， 包括加工台， 加工台 的上方设有转盘， 转盘与加工台共同连接有旋转 驱动机构， 加工台的上端固定连接有支撑架， 支 撑架的上端左侧固定插接有气缸一， 气缸一的输 出端固定连接有烘干盒， 烘干盒的内部固定设有 多个加热棒， 支撑架的上端远离气缸一的一侧开 设有条形孔， 条形孔的内部转动连接有活动块， 活动块的上端固定插接有气缸二， 气缸二的输出 端固定连接有U形板。 本申请可以集上下料、 烘干 及涂源三工位于一体， 通过三工位的旋转设计， 有效提高整体的加工效率， 同时通过真空吸附固 定， 上下料也较为方便， 加工时也较为稳定性。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 217856930 U 2022.11.22 CN 217856930 U 1.一种晶片表面自动 涂源设备， 包括加工台(1)， 其特征在于， 所述加工台(1)的上方设 有转盘(2)， 所述转盘(2)与加 工台(1)共同连接有旋转驱动机构， 所述加工台(1)的上端固 定连接有支撑架(3)， 所述支撑架(3)的上端左侧固定插接有气缸一(4)， 所述气缸一(4)的 输出端固定连接有烘干盒(5)， 所述烘干盒(5)的内部固定设有多个加热棒(6)， 所述支撑架 (3)的上端远离气缸一(4)的一侧开设有 条形孔， 所述条形孔的内部转动连接有活动块(7)， 所述活动块(7)的上端固定插接有气缸二(8)， 所述气缸二(8)的输出端固定连接有U形板 (9)， 所述U形板(9)连接有喷涂 机构。 2.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 所述支撑架(3)的 上端固定插接有真空气泵(10)， 所述真空气泵(10)的吸入端固定连接有吸气管(11)， 所述 转盘(2)的内部中心位置开设有气腔一， 所述气腔一的上腔壁与吸气管(11)的管壁转动连 接， 所述转盘(2)的内部远离气腔一的位置开设有三个均匀分布的气腔二， 每个所述气腔二 的腔壁与气腔一的腔壁均共同开设有通气道， 每个所述通气道的内部均设有控制阀一， 每 个所述气腔二的上腔壁均开设有吸附口。 3.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 所述喷涂机构包括 固定设置于U形板(9)内部的连接管(12)， 所述连接管(12)的管壁下侧固定连通有多个喷涂 头(13)， 所述连接管(12)的管壁侧面固定连通有 进料软管(14)。 4.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 所述烘干盒(5)的 内部位于多个加热棒(6)下方的位置固定 设有安全挡网(15)， 所述烘干盒(5)的侧壁位于安 全挡网(15)下 方的位置开设有 多个出气孔。 5.根据权利要求3所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 所述U形板(9)的内 部下侧位于连接管(12)一侧的位置固定设有侧板(16)， 所述侧板(16)的侧壁固定插接有微 型电动推杆(17)， 所述微型电动推杆(17)的输出端固定连接有与喷涂头(13)出料端位置相 对应的密封 板(18)。 6.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 所述支撑架(3)的 侧壁固定插接有气缸三(19)， 所述气缸三(19)的输出端与活动块(7)的侧壁固定连接 。 7.根据权利要求2所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 每个所述气腔二远 离所述气腔一一侧的腔壁均固定连通有通气管(21)， 每个所述通气管(21)的内部均设有控 制阀二。 8.根据权利要求1所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 所述旋转驱动机构 包括转动设置于加工台(1)台面的驱动杆(22)， 所述 驱动杆(22)的上端与转盘(2)的下端固 定连接， 所述加工台(1)的下端固定 设有伺服电机(23)， 所述伺服电机(23)的输出端与驱动 杆(22)连接。 9.根据权利要求5所述的一种晶片表面自动涂源设备， 其特征在于， 所述密封板(18)的 上端固定连接有吸附棉垫(20)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217856930 U 2一种晶片表面自动涂源 设备 技术领域 [0001]本申请涉及晶片生产技 术领域， 尤其涉及一种晶片表面自动涂源设备。 背景技术 [0002]半导体晶片的生产工艺需要在硼扩生产前进行空面凃源， 对已清洗好的晶片硼扩 前需要进行凃源、 烘烤、 收片、 装舟等操作。 [0003]在实现本申请过程中， 发明人发现该技术中至少存在如下问题， 半导体晶片在进 行加工时， 其涂源工序及烘烤工序通常都是分开进行的， 其中需要转运环节， 较为繁琐， 而 且每涂源完成一个晶片后， 需要将晶片取下才能进行下一个晶片的涂源加工， 这些都会影 响晶片的加工效率， 因此， 提出一种晶片表面自动涂源设备。 实用新型内容 [0004]本申请的目的是为了解决现有技术中涂源工序及烘烤工序通常都是分开进行的， 其中需要转运环节， 较为繁琐， 而且每涂源完成一个晶片后， 需要将晶片取下才能进 行下一 个晶片的涂源加工， 这些都会影响晶片的加工效率的问题， 而提出 的一种晶片表面自动涂 源设备。 [0005]为了实现上述目的， 本申请采用了如下技 术方案： [0006]一种晶片表面自动涂源设备， 包括加工台， 所述加工台的上方设有转盘， 所述转盘 与加工台共同连接有旋转驱动机构， 所述加工台的上端固定连接有支撑架， 所述支撑架的 上端左侧固定插接有气缸一， 所述气缸一的输出端固定连接有烘干盒， 所述烘干盒的内部 固定设有多个加热棒， 所述支撑架的上端远离气缸一的一侧 开设有条形孔， 所述条形孔的 内部转动连接有活动块， 所述活动块的上端固定插接有气缸二， 所述气缸二的输出端固定 连接有U形板， 所述U形板连接有喷涂 机构。 [0007]优选的， 所述支撑架的上端固定插接有真空气泵， 所述真空气泵的吸入端固定连 接有吸气管， 所述转盘的内部中心位置开设有气腔一， 所述气腔一的上腔壁与吸气管 的管 壁转动连接， 所述转盘的内部远离气腔一的位置开设有三个均匀分布的气腔二， 每个所述 气腔二的腔壁与气腔一的腔壁均共同开设有通气道， 每个所述通气道的内部均设有控制阀 一， 每个所述气腔二的上腔壁均开设有吸附口。 [0008]优选的， 所述喷涂机构包括固定设置于U形板内部的连接管， 所述连接管的管壁下 侧固定连通有 多个喷涂 头， 所述连接管的管壁侧面固定连通有 进料软管。 [0009]优选的， 所述烘干盒的内部位于多个加热棒下方的位置固定设有安全挡网， 所述 烘干盒的侧壁 位于安全挡网下 方的位置开设有 多个出气孔。 [0010]优选的， 所述U形板的内部下侧位于连接管一侧的位置固定设有侧板， 所述侧板的 侧壁固定插接有微型电动推杆， 所述微型电动推杆的输出端固定连接有与喷涂头出料端位 置相对应的密封 板。 [0011]优选的， 所述支撑架的侧壁固定插接有气缸三， 所述气缸三的输出端与活动块的说　明　书 1/3 页 3 CN 217856930 U 3