(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222239178.4 (22)申请日 2022.08.25 (73)专利权人 连云港太平洋半导体材 料有限公 司 地址 222000 江苏省连云港市东海县牛山 街道晶都大道东路10 67号 (72)发明人 陈富伦　刘明伟　徐传达　倪玲　 (74)专利代理 机构 连云港联创专利代理事务所 (特殊普通 合伙) 32330 专利代理师 胡荣 (51)Int.Cl. B08B 1/04(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 3/14(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种半导体刻蚀加工用清洗设备 (57)摘要 本实用新型公开了一种半导体刻蚀加工用 清洗设备， 属于半导体清洗技术领域， 包括清洗 箱， 所述清洗箱的内部底端左侧固定连接有储水 箱， 所述排水管的外壁设置有排水阀， 所述储水 箱的内部安装有水泵， 所述水泵的外壁连通有水 管， 所述水管的另一端贯延伸至清洗箱的内部与 汇水室连通， 所述清洗箱的内部底端固定连接有 位于储水箱右侧的过滤室， 所述过滤室的内部可 拆卸连接有过滤网； 通过启动水泵工作， 将储水 箱内部的水通过水管导入汇水室内部， 再通过底 部设置的多个喷头喷出， 从而对半导体表面润湿 进行清洗， 清洗过后的水导入过滤室内部， 通过 过滤网过滤将干净的水重新导入储水箱内部重 复使用， 从而有效防止水资源的浪费， 防止对环 境造成污染。 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 CN 217911761 U 2022.11.29 CN 217911761 U 1.一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 包括清洗箱(1)， 其特征在于： 所述清洗箱(1)的内 部顶端固定连接有左右分布的液压柱(2)， 两个所述液压柱(2)的输出端固定连接有安装板 (3)， 所述安装板(3)的底端固定连接有电机外壳(5)， 所述电机外壳(5)的内部安装有电机 (4)， 所述电机(4)的输出端固定连接有贯穿延伸至电机外壳(5)外部的传动轴(6)， 所述传 动轴(6)的另一端固定连接有旋转盘(7)， 所述旋转盘(7)的底端固定连接有清洗刷(8)； 所述清洗箱(1)的内壁左右两侧均 开设有第一滑动 槽(13)， 所述清洗箱(1)的内部设置 有与第一滑动槽(13)滑动连接的滑动板(14)， 所述滑动板(14)的前端面固定连接有把手 (39)， 所述滑动板(14)的上端面固定连接有 多个固定架(16)； 所述清洗箱(1)的内部固定连接有位于滑动板(14)上方的汇水室(10)， 所述汇水室 (10)的底端固定连接有多个均匀分布的喷头(11)， 所述清洗箱(1)的内部底端左侧固定连 接有储水箱(34)， 所述储水箱(34)的左侧壁设置有上下分布的进水管和排水管(36)， 所述 排水管(36)的外壁设置有排水阀(37)， 所述储水箱(34)的内部安装有水泵(35)， 所述水泵 (35)的外壁连通有水管(12)， 所述水管(12)的另一端贯延伸至清洗箱(1)的内部与汇水室 (10)连通， 所述清洗箱(1)的内部底端固定连接有位于储水箱(34)右侧的过滤室(31)， 所述 过滤室(31)的内部可拆卸连接有过 滤网(32)。 2.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 所述清洗箱 (1)的内部固定连接有位于滑动板(14)下方的支撑板(29)， 所述支撑板(29)的前端面开设 有水管槽(30)， 所述支撑板(29)的上端面固定连接有收集池(26)， 所述收集池(26)的内部 底端左侧固定连接有倾斜板(27)， 所述收集池(26)的底端右侧可拆卸连接有下水管(28)， 所述下水管(28)的另一端通过 水管槽(30)延伸至过 滤室(31)内部 。 3.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 所述固定架 (16)的上端面贯穿开设有第一空槽(17)， 所述第一空槽(17)的内部固定连接有伸缩杆 (18)， 所述固定架(16)的外壁贯穿开设有第一滑槽， 所述固定架(16)的一侧贯穿开设有第 二滑槽， 所述第一滑槽和第二滑槽的内部均滑动连接有三角滑板(19)， 两个所述三角滑板 (19)的一侧均可拆卸连接有固定夹(22)， 两个所述三角滑板(19)相对的一侧均开设有第二 滑动槽(20)， 两个所述三角滑板(19)之间滑动连接有梯形滑板(21)， 所述梯形滑板(21)的 外壁固定连接有与伸缩杆(18)活动连接的U形板(42)。 4.根据权利要求3所述的一种半导体刻 蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 两个所述固定 夹(22)相对的一侧均固定连接有防滑垫(23)。 5.根据权利要求2所述的一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 所述滑动板 (14)的底端开设有与收集池(26)外壁抵接的第二空槽(24)， 所述滑动板(14)的上端面贯穿 开设有多个均匀分布的漏水孔(25)。 6.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 所述储水箱 (34)与过 滤室(31)之间连通有导水 管(33)， 所述导水管(33)的外壁设置有阀门。 7.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 所述清洗箱 (1)的前端面设置有位于滑动板(14)上方的箱门(40)， 所述箱门(40)的前端面设置有观察 窗(41)， 所述清洗箱(1)的前端面设置有位于过滤室(31)前端的清理箱门(38)， 所述清理箱 门(38)的外壁设置有密封 垫。 8.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 所述清洗箱权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 217911761 U 2(1)的右侧壁设置于控制开关(9)， 所述控制开关(9)分别与液压柱(2)、 电机(4)、 水泵(35)、 伸缩杆(18)、 排水阀(37)和阀门电性连接 。 9.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀加工用清洗设备， 其特征在于： 所述滑动板 (14)的上端面左右两侧均固定连接有隔板(15)。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 217911761 U 3